GP-L600-300C metallurgisk mikroskop til wafer inspektion er et wafer inspektion metallurgisk mikroskop specielt designet til materiale-mikrostruktur inspektion. Udstyret med høj opløsning reflekteret lys optisk system og DIC differential-interferens funktion, det genererer stereoreliefbilleder til observation af kornstrukturer, revner, indeslutninger og belægningslag af metaller, legeringer, halvledere og andre materialer. Med industrielt kamera indbygget understøtter det billedoptagelse og on-monitor måling; Kornstørrelsesevaluering er tilgængelig med valgfri understøttende software. Udbredt anvendt i kvalitetskontrol, fiasko-analyse og materiale-videnskab-forskning scenarier.

Dette metallurgiske mikroskop til waferinspektion er velegnet til mikroskopisk observation af metallografiske mikrostrukturer og overflademorfologi. Det fungerer som et ideelt forskningsværktøj til metallurgi, mineralogi og finmekaniske discipliner.
1. Kikkertvisning plus synkron elektronisk observation:Okularvisning og monitorvisning arbejde synkront. Almindelige metallurgiske mikroskoper understøtter kun okularobservation; ekstra kameratilbehør kræves til skærmoutput.
2. Mekanisk krop med høj præcision:Stiv mekanisk struktur med stabil optisk vej, egnet til halvleder- og materialeanalysearbejde. Konventionelle metallurgiske mikroskoper leverer lavere mekaniske præcision.
3. Direkte HDMI-udgang:Billedoutput i realtid til monitor via HDMI-kabel. Almindelig metallurgisk mikroskoper kræver separate kameraer og optagelseskort til billedoutput.
4. Offline måling på skærmen:Dimensionsmåling kan udføres direkte på skærmen uden pc-forbindelse. Almindelige metallurgiske mikroskoper er udelukkende afhængige af pc-softwaremåling.
5. Offline U-disk-lager:Gem fotos og videoer på U-disk uden en computer. Traditionel modeller skal tilsluttes pc for at gemme billeder.
6. Dedikeret metallurgisk optisk vej:Optimeret til metal-korn, belægning, halvleder og metallografisk inspektion. Almindelige digitale mikroskoper mangler denne specialiserede optiske vej og kan ikke visualisere metallografiske strukturer.
HD-kamera indbygget i trinokulært hus til samtidig visning via okular og monitor. HDMI-mikrobillede i realtid output kombinerer observation og registrering af arbejdsgange.
Understøtter DIC-, lysfelt-, mørkfelt- og polariseret lysobservation. 4-trins forstørrelse, optisk 50-500X, max digital forstørrelse op til 1900X, der leverer skarpe detaljer til mikrofunktionsinspektion.
Dobbeltfokusknapper parret med forstærket linse-cylinder-samling muliggør konstant fokusering og minimerer billedrystelser.
Tykt integreret metalhus og scenebeslag med lavt tyngdepunkt, der holder en stabil ydeevne til langvarig laboratorieobservation.
Minimalistisk helhvid stiv metalstruktur med modulært optisk layout, velegnet til laboratorier og forskning institutter.
Ideel til waferinspektion, metallografisk analyse, materiale-mikrostrukturkarakterisering, akademisk forskning og præcisions-kvalitets-evalueringsarbejde.
1080P foto- og videooptagelse, indbygget måling på skærmen, U-disk-lagring. Digitale billeder forenkler filarkivering, sammenligning og post-eksperiment analyse.
Mekanik:Fuldmetalkonstruktion for høj stivhed og vibrationsmodstand. Præcision grov-fin fokusering uden tilbageslag. Højpræcision manuel XY mekanisk trin med lavt slid og minimal clearance. Trinokulær optisk vej opretholder optisk co-alignment under forstørrelsesskift.
Optik:Infinity-korrigerede plan-akromatiske metallurgiske objektiver med anti-dug hård belægning. Transmitteret reflekteret 12V-100W halogenlampebelysning.
Billedbehandling og måling:HDMI 1080P-kamera i industriel kvalitet med fremragende anti-interferens ydeevne, velegnet til industrielt miljø. Målinger udføres via firmware på displayet.
Driftsmiljø:Arbejdstemperatur 10-35 ℃, relativ luftfugtighed 30-75% RH. Stabil ydeevne under almindeligt elektromagnetisk fabriksmiljø. Undgå kraftige vibrationer, ætsende gasser og kraftigt støv.
Kvalitet og vedligeholdelse:Fuldstændig fabriksinspektion. De optiske moduler må ikke skilles ad. Regelmæssig støvtæt rengøring forlænger levetiden.
Halvleder og mikroelektronik (Core DIC Application):
Siliciumwafers, litografiskiver, IC-chips, PCB'er, FPC fleksible kredsløb, loddesamlinger, emballagekomponenter.
Inspektionsmål: spånoverfladetopografi, wafer-ætsningsmønstre, nanoridser, koldloddesamlinger,
oxidation og stiftdeformation. Differential-interference-contrast (DIC) fremhæver subtile overfladehøjdeforskelle
til observation af mikrokredsløbssnit inden for 190-1900× forstørrelsesområde.
Metallografiske metalprøver:
Legerede metallografiske sektioner, stål, præcisionsstemplet metalbeslag.
Inspektionsmål: metalkornstruktur, varmebehandlingsanalyse, mikrooverfladerevner, kantafhugning, fine grater,
slidspor og indre materialeurenheder. Lysfelt / mørkt felt / polariseret lys tilstande tilgængelige for metal
observation af krystalstruktur.
Laboratorieforskningsprøver: Krystal, pulver, fiber og tyndfilm:
Kemiske krystaller, metalpulver, kulfiber, tekstilfiber, optisk-coating-film.
Observer krystalmorfologi, partikelkonturer, filmdelaminering og mikrobelægningsteksturer; polariseret lys
identificerer krystalpolarisationskarakteristika.
Optoelektroniske præcisions-plastikkomponenter:
LED-chips, optiske linser, glassubstrater, halvleder-emballeringslim.
Registrer mikroporer, nano-ridser, lim-delaminering, bobler og subtile overfladeujævnheder.
Højpræcisions miniaturekomponenter:
Stik, terminaler, mikrofjedre, bittesmå stemplede emner.
Nøjagtig måling på pixelniveau for mellemrum, huldiametre, stigning og overfladehøjdeforskelle; DIC visualiserer
subtil krympe-deformation.
Universitetslaboratorier og High-End Semiconductor QC:
Materialeforskningseksperimenter, inspektion af wafers indgående varer, observation af metallografiske prøver; foto-video
arkivering.
Udstyret med indbygget 1920*1080 HD-billeddannelse. Velegnet til metallografisk observation, grundlæggende halvlederinspektion og generering af simpel laboratorierapport; viser tydeligt metalkorn og små kredsløbsfejl.
Manuelt fokus design, velegnet til statiske laboratorieprøver og lavfrekvent arbejdsemneudskiftning. Stabil fokusering struktur med præcis finjustering for detaljeret statisk prøveobservation.
Standard manuel bevægelig scene og vertikal trinokulær metallurgisk optisk vej til metalprøver, spånskiver og mellemstore PCB'er, der effektivt undertrykker reflekterende blænding til grundlæggende metallografisk inspektion.
Dobbelt forstørrelsesområde: 50-500X optisk forstørrelse, 190-1900X digital forstørrelse. Dækker begge fuldeksemplarer oversigt og mikro-korn / mikro-fejl inspektion.
Indbygget målefunktion på enheden, HDMI-realtidsudgang, U-disk til lagring af inspektionsbilleder og måling data, til grundlæggende laboratorie-arkiveringsformål.
Neutral-pakning forsendelse er tilgængelig efter anmodning.
| Punkt | Beskrivelse |
| Produkt | GP-L600-300C Wafer Inspection Metallurgical Microscope |
| Kategori | Laboratory Research-Grade Trinocular Metallurgical Microscope, understøtter DIC differentiel interferens, lysfelt / mørkt felt / polariseret lys observation |
| Kerneteknologier | Trinokulært synkront visningssystem, integreret multi-mode belysning (lysfelt, mørkt felt, polarisator, differentiel-interferens-kontrast DIC), professionel høj præcision metallurgisk objektivsæt, HD CMOS billedsensor, indbygget digitalt præcisionsmålingsmodul, HDMI video-output i realtid, U-disk lokal billedlagringsteknologi |
| Nøglespecifikationer | Visuel forstørrelse: 50/100/200/500×; Elektronisk forstørrelse: 190/380/760/1900×; Output interface: HDMI kun; Optagelsesopløsning: 1920*1080; Kun manuel fokus; Indbygget funktion til præcis måling; U-skive opbevaring; Monitor-terminal understøtter HD-billedforhåndsvisning, fotooptagelse og videooptagelse; Observation tilstande omfatter differentiel-interferens, lyst-felt, mørkt-felt, polariseret-lys. |
| Typiske applikationer | Halvleder-wafer-fejl-analyse, metal-materiale metallografisk-testning, belægning-tynd-film- mikrostruktur-observation, præcision-halvleder-pakke-inspektion, nyt-materiale-laboratorie-forskning, medicinsk-biomateriale-observation, mikro-defekt-detektion for elektroniske-komponenter |
| Fabrikant | Kunshan Gaopin Precision Instrument Co., Ltd. |
| Producentens placering | Kunshan, Jiangsu, Kina (ved siden af Shanghai) |
| Model | GP-L600-300C |
| Opløsning | 1920×1080 |
| Virkelig effektive pixel | 2 megapixel |
| Fokuseringsmetode | Kun manuel fokus |
| Optisk format | 1/2" |
| Pixel størrelse | 3,75 μm × 3,75 μm |
| Outputmetode | HDMI |
| Detaljeret introduktion til outputgrænseflader | ① HDMI tilsluttes til 4K-kompatible skærme. Integreret professionel billedbehandlingsfirmware understøtter fotooptagelse, videooptagelse, dimensionsmåling, billedafspilning og billedsammenligning, betjent med musen i realtid. |
| Billedhastighed | HDMI: 60fps @1920*1080 |
| Dybdefeltsyntese | / |
| Billedsøm | / |
| Målemetode | Indbygget målesystem på skærmen |
| Målenøjagtighed | 0,001 mm |
| Måleenheder | mm / μm / mil / tomme (4 omskiftelige enheder) |
| Måleværktøjer | Længde, vinkel, radian, cirkel, polygon, polylinje, center-til-center afstand, rektangel, annotering tilføjer, automatisk kantregistrering, skaleringsbjælke og mere |
| Opbevaringsmetode | U-disk opbevaring |
| Vis sprog | Forenklet kinesisk / engelsk (kan skiftes) |
| Processor | ARM Cortex-A7 Dual-Core @ Max 1,3 GHz |
| Operativsystem | Uafhængigt udviklet målefirmware baseret på Linux 3.1 kerne |
| Billednavngivning | Automatisk eller manuel navngivning tilgængelig |
| Visningshoved | 30° skråtstillet trinokulært hoved; interpupillær justeringsområde: 54-76 mm; to stråleopdeling forhold: 100:0, 0:100 |
| Observationstilstande | ★ Lysfelt / Mørkt felt / Polariseret lys / DIC (DIC-hardware er valgfri) |
| Belysningssystem | Transmitteret-reflekteret faldende lys belysningssystem, 100-240V bredspændingsindgang, justerbar filament center, kontinuerligt justerbar lysintensitet. |
| Stå | ① Transmitteret-reflekteret stativ med to formål; lav håndposition koaksial grov-fin fokuseringsmekanisme.
Grovjustering slaglængde: 33 mm; finjusteringsnøjagtighed: 0,001 mm. Udstyret med låsning og begrænsning
enheder ② Lysfelt- og mørkfeltreflektor med variabel blændestop, feltstop og justerbar center samling. ③ Interferensfilter og farvebalanceplade (hvidt-lys) til reflekteret lys optisk vej. ④ lys-mørke-felt skifte enhed; slots til farvefiltre og polariserende tilbehør. |
| Mekanisk scene | 4-tommer manuel mekanisk scene. Scenedimension: 230 mm × 215 mm; X-Y vandring: 105 mm × 105 mm. Glas prøvebærerplade til både transmitteret og reflekteret observation. |
| Lyskilde | 12V 100W halogenlampekammer (reflekteret lys); 12V 100W halogenlampe (gennemlys). |
| Polarisationsfunktion | 30-graders polarisatorstik (reflekteret lys); 360° drejeligt analysatorstik til polariseret lys observation. |
| Okularer | To PL10X/22 mm vidvinkel plan-felt okularer med justerbar dioptri (et okular med trådkors skala). |
| Næsestykke | ★ Objektiv næsestykke med fem huller i lyst og mørkt felt |
| DIC funktion | Differential-interferens-kontrast funktion; DIC-indsatskorttilbehør er valgfrit og ikke inkluderet ind standard konfiguration. |
| Elektronisk grænseflade | 0,5X C-mount kamera interface, justerbar fokus; CTV 1X er valgfri med pris-forskel kompensation. |
| Metallurgiske mål | ★ Bright-mørke felt semi-destruktive metallurgiske mål ① OLIPBD5NCA-DIC 5X/0.15, fungerer Afstand: 9,00 mm ×1 stk ② OLIPBD10NCA-DIC 10X/0,30, arbejdsafstand: 9,00 mm × 1 stk. ③ OLIPBD20NCA-DIC 20X/0,45, Arbejdsafstand: 3,40 mm × 1 stk ④ OLIPBD50NC 50X/0,55, arbejdsafstand: 7,50 mm × 1 stk. ⑤ OLIPBD100NC 100X/0,80, Arbejdsafstand: 2,10 mm (valgfrit, ikke inkluderet i standardpakken) |
| Optisk forstørrelse | 50X, 100X, 200X, 500X (kan skiftes i fire niveauer) |
| Elektronisk forstørrelse | Ca. 190X, 380X, 760X, 1900X (kan skiftes i fire niveauer); valgfrit forstørrelsesområde: 380-3800X. |
Ansvarsfraskrivelse:Logoer og navne på virksomheder, universiteter og forskningsinstitutioner, der vises på kun denne hjemmeside angive, at sådanne enheder har købt eller brugt mikroskoper af mærket GAOPIN. Deres udseende skal ikke være fortolket som køb af denne nøjagtige produktmodel og skal ikke indebære nogen kommerciel godkendelse, co-branding, tilknytning eller fælles projektpartnerskab med disse tredjepartsorganisationer.
GAOPIN mikroskoper bruges af førende virksomheder, forskningsinstitutter og universiteter. Vores samarbejde relationer omfatter:
AVIC Optronics Technology Co., Ltd. – Præcisionsstik og komponentinspektion
NIO Shanghai – Præcisionsinspektion for nye energireservedele og ledningsnet
Shanghai Institute of Ceramics, CAS – Mikroanalyse af uorganisk-keramik og nye-energi-materialer
ZHENGKUNHANG Industrial MRO Supermarket (Shanghai) Co., Ltd. – Udseende og mikrokvalitetsverifikation for industri-standard-dele
Beijing Institute of Technology – Videnskabelig-forskning-analyse for militære materialer og optoelektroniske enheder
GREE Electric Appliances (Hefei) – Præcisionsdimensionsmåling og fejlinspektion for husholdningsapparater-dele
Kunshan Gaopin Precision Instrument Co., Ltd. blev officielt grundlagt i 2011. Vores grundlægger startede forskning og fremstilling af optisk inspektionsudstyr allerede i 2005 og akkumuleret rigelig industrierfaring. Vi levere fuld-cyklus-tjenester, der dækker produktdesign, teknisk-R&D, globalt salg og omfattende-eftersalgs-vedligeholdelse. Vores interne ingeniørteam har over ti års erfaring med udvikling af optiske systemer for at sikre stabil teknisk ydeevne og pålidelig produktkvalitet.
GAOPIN tilbyder mere end hundrede kategorier af optiske inspektionsinstrumenter, der betjener industri- og laboratorie- kunder over hele verden. Vi leverer fleksible, omkostningseffektive skræddersyede mikroskopiløsninger til forskellig industri kvalitetskontrol og laboratorie-analyse-projekter.
For oversøiske købere yder vi rettidig global-teknisk support, herunder online-video-konsultationer, operationel-video- tutorials og fjerntræning. Vores produktionsanlæg er beliggende i Kunshan, Jiangsu-provinsen (tæt på Shanghai). Fabriksbesøg på stedet og virtuelle online-ture er velkomne. Kontakt venligst vores salgsteam for autentisk sample-testing-billeder optaget af dette Wafer Inspection Metallurgical Microscope for at evaluere real-imaging-ydeevne.
A1: Kun HDMI high-definition output er udstyret. Der er ingen USB-, WIFI- eller LAN-port. Computerforbindelse er ikke understøttet; det fungerer uafhængigt med en skærm til enkle arbejdsgange.
A2: Tjek strømforsyning og matchende adapter; fastgør HDMI-kablet godt; skifte skærm til korrekt HDMI-signalkilde; genstart enheden for at løse fejl med sort skærm og ingen billeder.
A3: Dette er en model med manuel fokus. Juster langsomt fokushåndhjulet for at opnå skarpe billeder. Lås objektivlinsen godt fast, læg prøve flad, og rengør regelmæssigt linsestøv og pletter for klart udsyn.
A4: Kun FAT32-formaterede U-diske ≤32 GB understøttes. NTFS- og exFAT-formater er inkompatible. Genindsæt, omformater eller udskift med en kompatibel U-disk til normal foto- og videolagring.
Adresse
Bygning 2, Shuanglian International Business Center, Huaqiao Town, Kunshan City, Kina
Tlf
