Produkter

Produkter

Metallurgisk mikroskop til wafer-inspektion
  • Metallurgisk mikroskop til wafer-inspektionMetallurgisk mikroskop til wafer-inspektion
  • Metallurgisk mikroskop til wafer-inspektionMetallurgisk mikroskop til wafer-inspektion

Metallurgisk mikroskop til wafer-inspektion

Model:GP-L600-300C
GAOPIN er en professionel producent og engrosleverandør af højkvalitets industriel og videnskabelig metallurgisk mikroskoper i Kina. Vi fokuserer på R&D, produktion og bulk levering af præcisionsinspektionsinstrumenter, herunder Wafer Inspection Metallurgical Microscope til globale industri- og forskningsindkøbere. Det metallurgiske mikroskop til waferinspektion er en metallurgisk mikroskop i forskningsgrad, der understøtter omskiftning af lysfelter og mørkefelter. Det muliggør direkte måling når den er tilsluttet en skærm, hvilket giver intuitive og effektive arbejdsgange til mikroskopisk detektion. Med pålidelige ydeevne og moden produktionsteknologi, denne model understøtter bulk indkøb, konfigurationstilpasning og one-stop-indkøb, der perfekt opfylder videnskabelige forskningsanalyser og industrielle inspektionskrav for store partier.

GP-L600-300C metallurgisk mikroskop til wafer inspektion er et wafer inspektion metallurgisk mikroskop specielt designet til materiale-mikrostruktur inspektion. Udstyret med høj opløsning reflekteret lys optisk system og DIC differential-interferens funktion, det genererer stereoreliefbilleder til observation af kornstrukturer, revner, indeslutninger og belægningslag af metaller, legeringer, halvledere og andre materialer. Med industrielt kamera indbygget understøtter det billedoptagelse og on-monitor måling; Kornstørrelsesevaluering er tilgængelig med valgfri understøttende software. Udbredt anvendt i kvalitetskontrol, fiasko-analyse og materiale-videnskab-forskning scenarier.

Wafer Inspection Metallurgical MicroscopeWafer Inspection Metallurgical Microscope

Anvendelsesområde

Dette metallurgiske mikroskop til waferinspektion er velegnet til mikroskopisk observation af metallografiske mikrostrukturer og overflademorfologi. Det fungerer som et ideelt forskningsværktøj til metallurgi, mineralogi og finmekaniske discipliner.

Forskelle fra konventionelle metallurgiske mikroskoper

1. Kikkertvisning plus synkron elektronisk observation:Okularvisning og monitorvisning arbejde synkront. Almindelige metallurgiske mikroskoper understøtter kun okularobservation; ekstra kameratilbehør kræves til skærmoutput.

2. Mekanisk krop med høj præcision:Stiv mekanisk struktur med stabil optisk vej, egnet til halvleder- og materialeanalysearbejde. Konventionelle metallurgiske mikroskoper leverer lavere mekaniske præcision.

3. Direkte HDMI-udgang:Billedoutput i realtid til monitor via HDMI-kabel. Almindelig metallurgisk mikroskoper kræver separate kameraer og optagelseskort til billedoutput.

4. Offline måling på skærmen:Dimensionsmåling kan udføres direkte på skærmen uden pc-forbindelse. Almindelige metallurgiske mikroskoper er udelukkende afhængige af pc-softwaremåling.

5. Offline U-disk-lager:Gem fotos og videoer på U-disk uden en computer. Traditionel modeller skal tilsluttes pc for at gemme billeder.

6. Dedikeret metallurgisk optisk vej:Optimeret til metal-korn, belægning, halvleder og metallografisk inspektion. Almindelige digitale mikroskoper mangler denne specialiserede optiske vej og kan ikke visualisere metallografiske strukturer.

Unikke designfordele

1. Integreret Synchronous CCD Imaging

HD-kamera indbygget i trinokulært hus til samtidig visning via okular og monitor. HDMI-mikrobillede i realtid output kombinerer observation og registrering af arbejdsgange.

2. Multi-Mode optisk højopløsningssystem

Understøtter DIC-, lysfelt-, mørkfelt- og polariseret lysobservation. 4-trins forstørrelse, optisk 50-500X, max digital forstørrelse op til 1900X, der leverer skarpe detaljer til mikrofunktionsinspektion.

3. Højpræcisions glat manuel fokusmekanisme

Dobbeltfokusknapper parret med forstærket linse-cylinder-samling muliggør konstant fokusering og minimerer billedrystelser.

4. Heavy-Duty stabil metalramme og base

Tykt integreret metalhus og scenebeslag med lavt tyngdepunkt, der holder en stabil ydeevne til langvarig laboratorieobservation.

5. Professionel forskning-grade udseende

Minimalistisk helhvid stiv metalstruktur med modulært optisk layout, velegnet til laboratorier og forskning institutter.

6. Bred forskningsorienteret og industriel anvendelsesdækning

Ideel til waferinspektion, metallografisk analyse, materiale-mikrostrukturkarakterisering, akademisk forskning og præcisions-kvalitets-evalueringsarbejde.

7. Alt-i-en digital visning og optagelse

1080P foto- og videooptagelse, indbygget måling på skærmen, U-disk-lagring. Digitale billeder forenkler filarkivering, sammenligning og post-eksperiment analyse.

Evidens og pålidelighed på stedet (førstehåndstest)

Mekanik:Fuldmetalkonstruktion for høj stivhed og vibrationsmodstand. Præcision grov-fin fokusering uden tilbageslag. Højpræcision manuel XY mekanisk trin med lavt slid og minimal clearance. Trinokulær optisk vej opretholder optisk co-alignment under forstørrelsesskift.

Optik:Infinity-korrigerede plan-akromatiske metallurgiske objektiver med anti-dug hård belægning. Transmitteret reflekteret 12V-100W halogenlampebelysning.

Billedbehandling og måling:HDMI 1080P-kamera i industriel kvalitet med fremragende anti-interferens ydeevne, velegnet til industrielt miljø. Målinger udføres via firmware på displayet.

Driftsmiljø:Arbejdstemperatur 10-35 ℃, relativ luftfugtighed 30-75% RH. Stabil ydeevne under almindeligt elektromagnetisk fabriksmiljø. Undgå kraftige vibrationer, ætsende gasser og kraftigt støv.

Kvalitet og vedligeholdelse:Fuldstændig fabriksinspektion. De optiske moduler må ikke skilles ad. Regelmæssig støvtæt rengøring forlænger levetiden.

Egnede inspektionsopgaver til 190-1900× forstørrelse

Halvleder og mikroelektronik (Core DIC Application):
Siliciumwafers, litografiskiver, IC-chips, PCB'er, FPC fleksible kredsløb, loddesamlinger, emballagekomponenter.
Inspektionsmål: spånoverfladetopografi, wafer-ætsningsmønstre, nanoridser, koldloddesamlinger, oxidation og stiftdeformation. Differential-interference-contrast (DIC) fremhæver subtile overfladehøjdeforskelle til observation af mikrokredsløbssnit inden for 190-1900× forstørrelsesområde.

Metallografiske metalprøver:
Legerede metallografiske sektioner, stål, præcisionsstemplet metalbeslag.
Inspektionsmål: metalkornstruktur, varmebehandlingsanalyse, mikrooverfladerevner, kantafhugning, fine grater, slidspor og indre materialeurenheder. Lysfelt / mørkt felt / polariseret lys tilstande tilgængelige for metal observation af krystalstruktur.

Laboratorieforskningsprøver: Krystal, pulver, fiber og tyndfilm:
Kemiske krystaller, metalpulver, kulfiber, tekstilfiber, optisk-coating-film.
Observer krystalmorfologi, partikelkonturer, filmdelaminering og mikrobelægningsteksturer; polariseret lys identificerer krystalpolarisationskarakteristika.

Optoelektroniske præcisions-plastikkomponenter:
LED-chips, optiske linser, glassubstrater, halvleder-emballeringslim.
Registrer mikroporer, nano-ridser, lim-delaminering, bobler og subtile overfladeujævnheder.

Højpræcisions miniaturekomponenter:
Stik, terminaler, mikrofjedre, bittesmå stemplede emner.
Nøjagtig måling på pixelniveau for mellemrum, huldiametre, stigning og overfladehøjdeforskelle; DIC visualiserer subtil krympe-deformation.

Universitetslaboratorier og High-End Semiconductor QC:
Materialeforskningseksperimenter, inspektion af wafers indgående varer, observation af metallografiske prøver; foto-video arkivering.

Sådan vælger du denne model

Vælg opløsning baseret på krav til klarhed

Udstyret med indbygget 1920*1080 HD-billeddannelse. Velegnet til metallografisk observation, grundlæggende halvlederinspektion og generering af simpel laboratorierapport; viser tydeligt metalkorn og små kredsløbsfejl.

Vælg fokuseringstilstand i henhold til betjeningsfrekvensen

Manuelt fokus design, velegnet til statiske laboratorieprøver og lavfrekvent arbejdsemneudskiftning. Stabil fokusering struktur med præcis finjustering for detaljeret statisk prøveobservation.

Vælg platform og optisk sti baseret på testprøver

Standard manuel bevægelig scene og vertikal trinokulær metallurgisk optisk vej til metalprøver, spånskiver og mellemstore PCB'er, der effektivt undertrykker reflekterende blænding til grundlæggende metallografisk inspektion.

Vælg forstørrelse i henhold til prøvestørrelse

Dobbelt forstørrelsesområde: 50-500X optisk forstørrelse, 190-1900X digital forstørrelse. Dækker begge fuldeksemplarer oversigt og mikro-korn / mikro-fejl inspektion.

Vælg måle-, optagelses- og opbevaringsfunktioner baseret på arbejdskrav

Indbygget målefunktion på enheden, HDMI-realtidsudgang, U-disk til lagring af inspektionsbilleder og måling data, til grundlæggende laboratorie-arkiveringsformål.

Tilpasningsmuligheder

Neutral-pakning forsendelse er tilgængelig efter anmodning.

Oversigt over produktenheder

Punkt Beskrivelse
Produkt GP-L600-300C Wafer Inspection Metallurgical Microscope
Kategori Laboratory Research-Grade Trinocular Metallurgical Microscope, understøtter DIC differentiel interferens, lysfelt / mørkt felt / polariseret lys observation
Kerneteknologier Trinokulært synkront visningssystem, integreret multi-mode belysning (lysfelt, mørkt felt, polarisator, differentiel-interferens-kontrast DIC), professionel høj præcision metallurgisk objektivsæt, HD CMOS billedsensor, indbygget digitalt præcisionsmålingsmodul, HDMI video-output i realtid, U-disk lokal billedlagringsteknologi
Nøglespecifikationer Visuel forstørrelse: 50/100/200/500×; Elektronisk forstørrelse: 190/380/760/1900×; Output interface: HDMI kun; Optagelsesopløsning: 1920*1080; Kun manuel fokus; Indbygget funktion til præcis måling; U-skive opbevaring; Monitor-terminal understøtter HD-billedforhåndsvisning, fotooptagelse og videooptagelse; Observation tilstande omfatter differentiel-interferens, lyst-felt, mørkt-felt, polariseret-lys.
Typiske applikationer Halvleder-wafer-fejl-analyse, metal-materiale metallografisk-testning, belægning-tynd-film- mikrostruktur-observation, præcision-halvleder-pakke-inspektion, nyt-materiale-laboratorie-forskning, medicinsk-biomateriale-observation, mikro-defekt-detektion for elektroniske-komponenter
Fabrikant Kunshan Gaopin Precision Instrument Co., Ltd.
Producentens placering Kunshan, Jiangsu, Kina (ved siden af ​​Shanghai)

Tekniske specifikationer

Model GP-L600-300C
Opløsning 1920×1080
Virkelig effektive pixel 2 megapixel
Fokuseringsmetode Kun manuel fokus
Optisk format 1/2"
Pixel størrelse 3,75 μm × 3,75 μm
Outputmetode HDMI
Detaljeret introduktion til outputgrænseflader ① HDMI tilsluttes til 4K-kompatible skærme. Integreret professionel billedbehandlingsfirmware understøtter fotooptagelse, videooptagelse, dimensionsmåling, billedafspilning og billedsammenligning, betjent med musen i realtid.
Billedhastighed HDMI: 60fps @1920*1080
Dybdefeltsyntese /
Billedsøm /
Målemetode Indbygget målesystem på skærmen
Målenøjagtighed 0,001 mm
Måleenheder mm / μm / mil / tomme (4 omskiftelige enheder)
Måleværktøjer Længde, vinkel, radian, cirkel, polygon, polylinje, center-til-center afstand, rektangel, annotering tilføjer, automatisk kantregistrering, skaleringsbjælke og mere
Opbevaringsmetode U-disk opbevaring
Vis sprog Forenklet kinesisk / engelsk (kan skiftes)
Processor ARM Cortex-A7 Dual-Core @ Max 1,3 GHz
Operativsystem Uafhængigt udviklet målefirmware baseret på Linux 3.1 kerne
Billednavngivning Automatisk eller manuel navngivning tilgængelig
Visningshoved 30° skråtstillet trinokulært hoved; interpupillær justeringsområde: 54-76 mm; to stråleopdeling forhold: 100:0, 0:100
Observationstilstande ★ Lysfelt / Mørkt felt / Polariseret lys / DIC (DIC-hardware er valgfri)
Belysningssystem Transmitteret-reflekteret faldende lys belysningssystem, 100-240V bredspændingsindgang, justerbar filament center, kontinuerligt justerbar lysintensitet.
Stå ① Transmitteret-reflekteret stativ med to formål; lav håndposition koaksial grov-fin fokuseringsmekanisme. Grovjustering slaglængde: 33 mm; finjusteringsnøjagtighed: 0,001 mm. Udstyret med låsning og begrænsning enheder
② Lysfelt- og mørkfeltreflektor med variabel blændestop, feltstop og justerbar center samling.
③ Interferensfilter og farvebalanceplade (hvidt-lys) til reflekteret lys optisk vej.
④ lys-mørke-felt skifte enhed; slots til farvefiltre og polariserende tilbehør.
Mekanisk scene 4-tommer manuel mekanisk scene. Scenedimension: 230 mm × 215 mm; X-Y vandring: 105 mm × 105 mm. Glas prøvebærerplade til både transmitteret og reflekteret observation.
Lyskilde 12V 100W halogenlampekammer (reflekteret lys); 12V 100W halogenlampe (gennemlys).
Polarisationsfunktion 30-graders polarisatorstik (reflekteret lys); 360° drejeligt analysatorstik til polariseret lys observation.
Okularer To PL10X/22 mm vidvinkel plan-felt okularer med justerbar dioptri (et okular med trådkors skala).
Næsestykke ★ Objektiv næsestykke med fem huller i lyst og mørkt felt
DIC funktion Differential-interferens-kontrast funktion; DIC-indsatskorttilbehør er valgfrit og ikke inkluderet ind standard konfiguration.
Elektronisk grænseflade 0,5X C-mount kamera interface, justerbar fokus; CTV 1X er valgfri med pris-forskel kompensation.
Metallurgiske mål ★ Bright-mørke felt semi-destruktive metallurgiske mål
① OLIPBD5NCA-DIC 5X/0.15, fungerer Afstand: 9,00 mm ×1 stk
② OLIPBD10NCA-DIC 10X/0,30, arbejdsafstand: 9,00 mm × 1 stk.
③ OLIPBD20NCA-DIC 20X/0,45, Arbejdsafstand: 3,40 mm × 1 stk
④ OLIPBD50NC 50X/0,55, arbejdsafstand: 7,50 mm × 1 stk.
⑤ OLIPBD100NC 100X/0,80, Arbejdsafstand: 2,10 mm (valgfrit, ikke inkluderet i standardpakken)
Optisk forstørrelse 50X, 100X, 200X, 500X (kan skiftes i fire niveauer)
Elektronisk forstørrelse Ca. 190X, 380X, 760X, 1900X (kan skiftes i fire niveauer); valgfrit forstørrelsesområde: 380-3800X.

Autoritative partnere og kunder

Authoritative Partners & Clients

Ansvarsfraskrivelse:Logoer og navne på virksomheder, universiteter og forskningsinstitutioner, der vises på kun denne hjemmeside angive, at sådanne enheder har købt eller brugt mikroskoper af mærket GAOPIN. Deres udseende skal ikke være fortolket som køb af denne nøjagtige produktmodel og skal ikke indebære nogen kommerciel godkendelse, co-branding, tilknytning eller fælles projektpartnerskab med disse tredjepartsorganisationer.

GAOPIN mikroskoper bruges af førende virksomheder, forskningsinstitutter og universiteter. Vores samarbejde relationer omfatter:

AVIC Optronics Technology Co., Ltd. – Præcisionsstik og komponentinspektion

NIO Shanghai – Præcisionsinspektion for nye energireservedele og ledningsnet

Shanghai Institute of Ceramics, CAS – Mikroanalyse af uorganisk-keramik og nye-energi-materialer

ZHENGKUNHANG Industrial MRO Supermarket (Shanghai) Co., Ltd. – Udseende og mikrokvalitetsverifikation for industri-standard-dele

Beijing Institute of Technology – Videnskabelig-forskning-analyse for militære materialer og optoelektroniske enheder

GREE Electric Appliances (Hefei) – Præcisionsdimensionsmåling og fejlinspektion for husholdningsapparater-dele

Om GAOPIN

Kunshan Gaopin Precision Instrument Co., Ltd. blev officielt grundlagt i 2011. Vores grundlægger startede forskning og fremstilling af optisk inspektionsudstyr allerede i 2005 og akkumuleret rigelig industrierfaring. Vi levere fuld-cyklus-tjenester, der dækker produktdesign, teknisk-R&D, globalt salg og omfattende-eftersalgs-vedligeholdelse. Vores interne ingeniørteam har over ti års erfaring med udvikling af optiske systemer for at sikre stabil teknisk ydeevne og pålidelig produktkvalitet.

GAOPIN tilbyder mere end hundrede kategorier af optiske inspektionsinstrumenter, der betjener industri- og laboratorie- kunder over hele verden. Vi leverer fleksible, omkostningseffektive skræddersyede mikroskopiløsninger til forskellig industri kvalitetskontrol og laboratorie-analyse-projekter.

For oversøiske købere yder vi rettidig global-teknisk support, herunder online-video-konsultationer, operationel-video- tutorials og fjerntræning. Vores produktionsanlæg er beliggende i Kunshan, Jiangsu-provinsen (tæt på Shanghai). Fabriksbesøg på stedet og virtuelle online-ture er velkomne. Kontakt venligst vores salgsteam for autentisk sample-testing-billeder optaget af dette Wafer Inspection Metallurgical Microscope for at evaluere real-imaging-ydeevne.

Ofte stillede spørgsmål

Q1: Hvilke output-interfaces understøtter enheden? Kan den oprette forbindelse til en computer?

A1: Kun HDMI high-definition output er udstyret. Der er ingen USB-, WIFI- eller LAN-port. Computerforbindelse er ikke understøttet; det fungerer uafhængigt med en skærm til enkle arbejdsgange.

Spørgsmål 2: Hvordan fejlfinder man problemer med sort skærm eller ingen billeder via HDMI-forbindelse?

A2: Tjek strømforsyning og matchende adapter; fastgør HDMI-kablet godt; skifte skærm til korrekt HDMI-signalkilde; genstart enheden for at løse fejl med sort skærm og ingen billeder.

Spørgsmål 3: Hvordan rettes slørede og ufokuserede observationsbilleder?

A3: Dette er en model med manuel fokus. Juster langsomt fokushåndhjulet for at opnå skarpe billeder. Lås objektivlinsen godt fast, læg prøve flad, og rengør regelmæssigt linsestøv og pletter for klart udsyn.

Q4: Hvorfor genkendes U-disken ikke og kan ikke gemme filer?

A4: Kun FAT32-formaterede U-diske ≤32 GB understøttes. NTFS- og exFAT-formater er inkompatible. Genindsæt, omformater eller udskift med en kompatibel U-disk til normal foto- og videolagring.

Send forespørgsel
Kontaktoplysninger
Send dit krav om et fabriksdirekte tilbud. OEM eller tilpassede mikroskopsystemer, bulkordrer, eksportforsendelse - GAOPIN svarer med et skræddersyet forslag.
X
Vi bruger cookies til at tilbyde dig en bedre browsingoplevelse, analysere trafik på webstedet og tilpasse indhold. Ved at bruge denne side accepterer du vores brug af cookies. Privatlivspolitik
AfviseAcceptere