GP-L600-324K 4K Ultra HD metallurgisk mikroskop til wafer inspektion er et forsknings-grade wafer inspektion metallurgisk mikroskop med 4K Ultra HD. Den vedtager en uendeligt korrigeret optisk system, med et valgfrit Nomarski DIC-modul til detektering af overfladehøjde i nanoskala variationer. Instrumentet understøtter lysfelt- og polariseret lysobservation. Den trinokulære port letter kamerainstallation og forbindelse med metallurgisk analysesoftware. Den er velegnet til arbejdsgange inkl metallografisk forskning, halvlederinspektion og materialefejlsanalyse.

This 4K Ultra HD Metallurgical Microscope for Wafer Inspection is suitable for microscopic observation of metallographic microstructures and surface morphology. Det fungerer som et ideelt forskningsværktøj til metallurgi, mineralogi og finmekaniske discipliner.
| Punkt | Beskrivelse |
| Produkt | GP-L600-324K Wafer Inspection Metallurgical Microscope med 4K Ultra HD |
| Kategori | Laboratorieforskningsgrad trinokulært metallurgisk mikroskop, kompatibelt med DIC differentiel interferens, lysfelt / mørkt felt / polariseret lys observation |
| Kerneteknologier | Trinokulært synkront visningssystem, integreret multi-mode belysning (lysfelt, mørkt felt, polarisator, differentiel-interferens-kontrast DIC), højpræcision professionel metallurgisk objektivsæt, 4K ultra-HD CMOS billedsensor, dobbelt målesystem (indbygget på skærmen måling + pc-softwaremåling), HDMI+Gigabit-LAN dual-channel signaltransmission, dual-storage teknologi, åben arkitektur, der understøtter sekundær udviklingsadgang |
| Nøglespecifikationer | Visuel forstørrelse: 50/100/200/500×; Elektronisk forstørrelse: 190/380/760/1900×; Dobbelt-output grænseflader: HDMI + Gigabit-LAN-port; 4K-optagelsesopløsning: 3840×2160; Kun manuel fokus; Dobbelt måling tilstande: indbygget præcis måling + matchet pc-softwaremåling; Dual-lagringstilstande: U-disk opbevaring + lagring af computersoftware; Monitorterminal: dimensionsmåling, forhåndsvisning af HD-billeder, fotoarkivering; PC-terminal: dimensionsmåling, fotolagring; Hele enheden understøtter sekundær-udvikling docking. |
| Typiske applikationer | Halvleder-wafer-fejl-analyse, metal-materiale metallografisk-inspektion, belægning-tynd-film- mikrostruktur-observation, præcision-halvleder-pakke-testning, avanceret-materiale-laboratorium- forskning, medicinsk-biomateriale-observation, mikro-defekt-detektion for elektroniske-komponenter |
| Fabrikant | Kunshan Gaopin Precision Instrument Co., Ltd. |
| Producentens placering | Kunshan, Jiangsu, Kina (ved siden af Shanghai) |
4K-kamera indbygget i trinokulært hus til samtidig visning via okular og monitor. Dual-port udgang via HDMI og Gigabit-LAN transmitterer ultra-HD mikrobilleder i realtid.
Understøtter DIC-, lysfelt-, mørkfelt- og polariseret lysobservation. 4-trins forstørrelse, optisk 50-500X, max digital forstørrelse op til 1900X, der leverer skarpe detaljer til mikrofunktionsinspektion.
Dobbelte koaksiale fokusknapper parret med forstærket linse-cylinder-samling muliggør konstant fokusering og minimerer billedet ryster.
Tykt integreret metalstativ og scenebeslag sænker tyngdepunktet og holder mikroskopet stabilt under lang-timers forsknings-grade inspektion.
Modulært optisk layout med stivt metalhus, velegnet til laboratorier, forskningsinstitutter og halvledere produktionsfaciliteter.
Optimeret til wafer-and-chip-inspektion; også bredt anvendt til halvledertestning, metallografisk analyse, materiale-forskning og præcision-kvalitet-evaluering arbejde.
4K foto- og videooptagelse, dobbeltmålingstilstande (indbygget på skærmen + pc-software). Dobbelt lagring via U-disk & computer. Dybde-of-field syntese og billedsammensætningsfunktioner kører udelukkende på understøttende pc-software. Sekundær-udvikling er understøttet over LAN-port til billedarkivering, sammenligning og avanceret analyse.
1. Optiske observationstilstande:Understøtter multi-mode optik inklusive DIC, lysfelt, mørkt felt og polariseret lys til observation af krystal- og belægningstekstur. Almindelige metallurgiske mikroskoper yder kun grundlæggende lysfelt og kan ikke visualisere ultratynde lag og krystalmikrostrukturer.
2. Billedbehandlingssystem:Native 4K ultra-HD-kamera, synkroniseret okular-og-skærmvisning. Almindelig metallurgiske mikroskoper anvender lavopløsnings 2K-kamera, kun okularvisning med forvrænget høj forstørrelse output.
3. Justering af forstørrelse:Fire gears forstørrelsesområde fra 190-1900X, der dækker makrooversigt og mikro-detalje inspektion. Almindelige metallurgiske mikroskoper har færre forstørrelsesgear og slørede billeder ved høj effekt.
4. Måling og registrering:Indbygget præcis måling på skærmen med foto-video-optagelse kapacitet. Almindelige metallurgiske mikroskoper har ingen indbygget måling og kræver pc-software til al analyse og arkivering.
Halvleder og mikroelektronik (Core DIC Application):
Siliciumwafers, litografiskiver, IC-chips, PCB'er, FPC fleksible kredsløb, loddesamlinger, emballagekomponenter.
Inspektionsmål: spånoverfladetopografi, wafer-ætsningsmønstre, nanoridser, koldloddesamlinger,
oxidation og stiftdeformation. Differential-Interference-Contrast (DIC) fremhæver subtile overflade-højde-forskelle
til observation af mikrokredsløbssnit inden for 190-1900× forstørrelsesområde.
Metallografiske metalprøver:
Legerede metallografiske sektioner, stål, præcisionsstemplet metalbeslag.
Inspektionsmål: metalkornstruktur, varmebehandlingsanalyse, mikrooverfladerevner, kantafhugning, fine grater,
slidspor og indre materialeurenheder. Lysfelt / mørkt felt / polariseret lys tilstande til metalkrystal
structure observation.
Laboratorieprøver: Krystal, pulver, fiber og tyndfilm:
Kemiske krystaller, metalpulver, kulfiber, optiske-coating-film.
Observer krystalmorfologi, partikelkonturer, filmdelaminering og mikrobelægningsteksturer; polariseret lys
identificerer krystalpolarisationskarakteristika.
Optoelektroniske og præcisions-plastikkomponenter:
LED-chips, optiske linser, glassubstrater, halvleder-emballeringslim.
Opdag mikroporer, nano-ridser, lim-delaminering, bobler, pletter og subtile overfladeujævnheder.
Højpræcisions miniaturekomponenter:
Stik, terminaler, mikrofjedre, bittesmå stemplede emner.
4K-pixel-niveau nøjagtig måling af mellemrum, huldiametre, pitch og overflade-højde-forskelle; DIC visualiserer
subtil krympe-deformation.
Universitetslaboratorier og High-End Semiconductor QC:
Materialeforskningseksperimenter, inspektion af wafers indgående varer, observation af metallografiske prøver; foto-video
arkivering, eksport af præcise målte QC-rapporter via tilsluttet pc.
Mekanik:Fuldmetalkonstruktion for høj stivhed og vibrationsmodstand. Præcision grov-fin fokusering uden tilbageslag. Højpræcision manuel XY mekanisk trin med lavt slid og minimal clearance. Trinokulær optisk vej opretholder optisk co-alignment, når du skifter objektiver.
Optik:Infinity-korrigerede plan-akromatiske metallurgiske objektiver med anti-dug hård belægning. Transmitteret reflekteret 12V-100W halogenlampebelysning.
Billedbehandling og måling:8,3-megapixel 4K industrielt CMOS-kamera. Dual-output: HDMI + Gigabit-LAN port, god anti-interferens ydeevne til brug i industrielt miljø. Understøtter indlejret måling på skærmen og PC-software måling. Dual-path lagring via U-disk og pc-software. Dybde-af-felt syntese og billedsammensætning kun tilgængelig på pc-software. Sekundær-udviklingsgrænseflade tilgængelig over Gigabit-LAN.
Udstyret med indbygget 3840*2160 4K-billeddannelse. Velegnet til metallografisk analyse, chip-kredsløbsinspektion og professionel testrapportgenerering, der tydeligt afslører metalkorn, mikroridser og små mikrofejl.
Manuelt fokusdesign, velegnet til statiske laboratorieprøver og lavfrekvent arbejdsemneudskiftning. Stabil finjustering knapper til langsigtet præcis statisk prøveobservation.
Standard manuelt bevægeligt trin og vertikal trinokulær metallurgisk optisk bane til spånskiver, små-mellemstørrelse PCB'er og metalprøver, der effektivt undertrykker reflekterende blænding til metallografisk inspektion.
Dobbelt forstørrelsesområde: 50-500X optisk forstørrelse, 190-1900X digital forstørrelse. Dækker begge fuldeksemplarer oversigt og mikro-korn / mikro-fejl inspektion.
Understøtter indbygget måling på enheden og måling af pc-software. Udstyret med HDMI + Gigabit-LAN-port. Fotos, videoer og måledata kan gemmes via kompatibel U-disk eller computer. Sekundær-udvikling understøttet til produktionslinjeintegration og lab-data-sporbarhed.
Neutral-pakning forsendelse er tilgængelig efter anmodning.
| Model | GP-L600-324K |
| Opløsning | 3840×2160 |
| Virkelig effektive pixel | 8.300.000 pixels |
| Fokuseringsmetode | Manuel fokus |
| Optisk format | 1/1,7" |
| Pixel størrelse | 1,85 μm × 1,85 μm |
| Outputmetode | HDMI + Gigabit Ethernet LAN-port |
| Detaljerede funktionelle introduktioner svarende til hver output-grænseflade | ① HDMI tilsluttes til 4K-kompatible skærme. Integreret professionel billedbehandlingsfirmware understøtter
fotooptagelse, videooptagelse, dimensionsmåling, billedafspilning og billedsammenligning, betjent
med musen i realtid. ② Gigabit LAN-port forbindes til routere, switche eller computere til netværk billede transmission. Computere inden for samme netværkssegment kan modtage video i realtid og udløse optagelse via matchende software. |
| Billedhastighed | HDMI: 60fps @3840×2160 Gigabit LAN: 20fps @1920×1080 |
| Dybdefeltsyntese | / |
| Billedsøm | / |
| Målemetode | Indbygget on-monitor målesystem + PC-software måling |
| Målenøjagtighed | 0,001 mm |
| Måleenheder | mm / μm / mil / tomme (4 omskiftelige enheder) |
| Måleværktøjer | Længde, vinkel, radian, cirkel, polygon, polylinje, center-til-center afstand, rektangel, annotering tilføjer, automatisk kantregistrering, skaleringsbjælke og mere |
| Opbevaringsmetode | U-disk lagring + PC-software lagring |
| Vis sprog | Forenklet kinesisk / engelsk (kan skiftes) |
| Processor | ARM Cortex-A17 Quad-Core @ Max 1,4 GHz hovedstyringsprocessor |
| Operativsystem | Uafhængigt udviklet målefirmware baseret på Linux 3.1 kerne |
| Billednavngivning | Automatisk eller manuel navngivning tilgængelig |
| Visningshoved | 30° skråtstillet trinokulært hoved; interpupillær justeringsområde: 54-76 mm; to stråleopdeling forhold: 100:0, 0:100 |
| Observationstilstande | ★ Lysfelt / Mørkt felt / Polariseret lys / DIC (DIC-hardware er valgfri) |
| Belysningssystem | Transmitteret-reflekteret faldende lys belysningssystem, 100-240V bredspændingsindgang, justerbar filament center, kontinuerligt justerbar lysintensitet. |
| Stå | ① Transmitteret-reflekteret stativ med to formål; lav håndposition koaksial grov-fin fokuseringsmekanisme.
Grovjustering slaglængde: 33 mm; finjusteringsnøjagtighed: 0,001 mm. Udstyret med låsning og begrænsning
devices. ② Lysfelt- og mørkfeltreflektor med variabel blændestop, feltstop og justerbar center samling. ③ Interferensfilter og farvebalanceplade (hvidt-lys) til reflekteret lys optisk vej. ④ lys-mørke-felt skifte enhed; slots til farvefiltre og polariserende tilbehør. |
| Mekanisk scene | 4-tommer manuel mekanisk scene. Scenedimension: 230 mm × 215 mm; X-Y vandring: 105 mm × 105 mm. Glas prøvebærerplade til både transmitteret og reflekteret observation. |
| Lyskilde | 12V 100W halogenlampekammer (reflekteret lys); 12V 100W halogenlampe (gennemlys). |
| Polarisationsfunktion | 30-graders polarisatorstik (reflekteret lys); 360° drejeligt analysatorstik til polariseret lys observation. |
| Okularer | To PL10X/22 mm vidvinkel plan-felt okularer med justerbar dioptri (et okular med trådkors skala). |
| Næsestykke | ★ Objektiv næsestykke med fem huller i lyst og mørkt felt |
| DIC funktion | Differential-interferens-kontrast funktion; DIC-indsatskorttilbehør er valgfrit og ikke inkluderet ind standard konfiguration. |
| Elektronisk grænseflade | 0,5X C-mount kamera interface, justerbar fokus; CTV 1X er valgfri med pris-forskel kompensation. |
| Metallurgiske mål | ★ Bright-mørke felt semi-destruktive metallurgiske mål ① OLIPBD5NCA-DIC 5X/0.15, fungerer Afstand: 9,00 mm ×1 stk ② OLIPBD10NCA-DIC 10X/0,30, arbejdsafstand: 9,00 mm × 1 stk. ③ OLIPBD20NCA-DIC 20X/0,45, Arbejdsafstand: 3,40 mm × 1 stk ④ OLIPBD50NC 50X/0,55, arbejdsafstand: 7,50 mm × 1 stk. ⑤ OLIPBD100NC 100X/0,80, Arbejdsafstand: 2,10 mm (valgfrit, ikke inkluderet i standardpakken) |
| Optisk forstørrelse | 50X, 100X, 200X, 500X (kan skiftes i fire niveauer) |
| Elektronisk forstørrelse | Ca. 190X, 380X, 760X, 1900X (kan skiftes i fire niveauer); valgfrit forstørrelsesområde: 380-3800X. |
GAOPIN mikroskoper bruges af førende virksomheder, forskningsinstitutter og universiteter. Vores samarbejde relationer omfatter:
Tianjin University of Commerce – Materiale-laboratorie-undervisning, mikro-billeddannelse og eksperimentel-data-arkivering
Jiangsu Bigao Electromechanical Equipment Co., Ltd. – Dimensions- og mikrofejldetektion til præcisionsbearbejdet dele
AVIC Optronics Technology Co., Ltd. – Præcisionsstik og komponentinspektion
Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, CAS – Avanceret-optisk-forskning & optisk-komponent-karakterisering
Xi'an Jiaotong University – Avanceret-materialevidenskab og præcisionsoptik eksperimentel-observation
Shanghai Institute of Ceramics, CAS – Mikroanalyse af uorganisk-keramik og nye-energi-materialer
Kunshan Gaopin Precision Instrument Co., Ltd. blev officielt grundlagt i 2011. Vores grundlæggerhold akkumulerede dybt rodfæstet ekspertise i optisk-inspektion-instrumentering, der går tilbage til 2005. Vi er en teknologi-fokuseret virksomhed leverer fuld-cyklus tjenester, der dækker design, R&D, globalt salg og eftersalgssupport til industrielle mikroskoper. Vores kerne ingeniørteam besidder mere end ti års specialiseret optisk-instrument-udviklingserfaring for at sikre bevist-stabil-teknologi og ensartet-pålidelig kvalitet.
GAOPIN opretholder et omfattende produktkatalog med over hundrede optiske instrumentmodeller til hele verden kunder. Vi udvikler fleksible, omkostningseffektive skræddersyede mikroskopi-løsninger til forskellig industriel inspektion og laboratorie-forskningskrav.
Global-teknisk support med hurtig respons er tilgængelig for oversøiske kunder, herunder online-møder, trin-for-trin-video-vejledning og fjerntræningssessioner. Vores produktionsbase er beliggende i Kunshan, Jiangsu provins (tæt på Shanghai). Fabriksbesøg på stedet og virtuelle online-ture er velkomne. Kontakt venligst vores salgsteam vedr autentiske prøve-test-billeder taget af dette Wafer Inspection Metallurgical Microscope med 4K Ultra HD til vurdere real-world billedbehandling-ydeevne.
A1: Udstyret med to grænseflader med HDMI high-definition output og LAN-port. Det understøtter billeddannelse i realtid ved direkte tilslutning til en skærm og computerforbindelse via netværkskabel. Uden USB- og WIFI-grænseflader er det understøtter både selvstændig drift og computersamarbejde.
A2: Den understøtter 4K ultra-HD foto- og videooptagelse. Filer kan gemmes på FAT32-formateret U-disk inden for 32 GB kapacitet eller computerlager. Understøtter både skærm- og pc-software præcis måling, med databesparelse og rapport-eksport funktioner.
A3: Tjek strømforsyning og matchende adapter; fastgør HDMI-kablet godt; skifte skærm til korrekt HDMI-signalkilde; genstart enheden for at løse fejl med sort skærm og ingen billeder.
A4: Dette er en model med manuel fokus. Juster langsomt fokushåndhjulet for skarpe billeder. Lås objektivlinsen godt fast, læg prøve flad og regelmæssigt ren linsestøv og pletter.
A5: Sørg for, at mikroskop og pc er inden for samme IP-segment; deaktiver firewall og aflytning-software; sæde igen netværk-kabel; genstart enhed og understøttende målesoftware for at etablere normal forbindelse.
Adresse
Bygning 2, Shuanglian International Business Center, Huaqiao Town, Kunshan City, Kina
Tlf
